該低溫裝置采用低壓液氮或液氦作為冷卻工質，通過毛細管路輸送至蒸發器，利用蒸汽噴射至樣品腔實現高效冷卻，可在約20分鐘內將樣品從室溫降至80K，約30分鐘降至4.2K。其控溫系統通過動態調節蒸發器加熱功率，結合PT100鉑電阻或Cernox磁場不敏感傳感器實現±0.01K的溫度穩定性。標準工作溫區覆蓋80K-325K，通過降壓選件可擴展至65K（液氮模式）或4K（液氦模式），并可選配475K高溫模塊以適應*端溫度測試需求。

結構設計注重便捷性與環境兼容性：頂端裝載式樣品桿支持快速更換樣品，適配25×25mm標準尺寸（可定制更大規格）；底部采用無磁不銹鋼真空罩和鍍金銅樣品室，有效減少熱輻射干擾并兼容強磁場環境。冷卻后的蒸汽可經出氣口回收利用，顯著降低液氮消耗（液氦模式下低至0.75L/h@4.2K），結合內置真空系統（*高達10?11 Torr）及惰性氣體環境選項，避免樣品氧化污染。

該裝置具備多場景適配能力，支持集成真空/超高真空環境、磁場及石英光學窗口，滿足光反射、熒光光譜等實驗需求；可選配低溫同軸線或三同軸線引線，實現電學、熱學及光學多模態測量。模塊化設計提供可拆卸樣品座、冷頭加長件及定制化熱交換基體，適配薄膜、納米材料等特殊樣品，并可聯動磁鐵、顯微鏡等設備進行原位觀測與復雜工況模擬。