超高真空系統(tǒng)（以金屬密封情況為主）主要是以SS316（或者SS304）材質(zhì)為主的腔體作為承載，并裝配有不同功能的部件（也都是滿足超高真空低放氣率要求的材料組成）。
真空腔體內(nèi)表面一般都會(huì)經(jīng)過拋光處理（機(jī)械拋光、電化學(xué)拋光等手段），以達(dá)到表面更加平整、致密的效果；而真空系統(tǒng)暴露大氣（vent）后，不單是腔體內(nèi)表面，腔體內(nèi)所有部件都會(huì)吸附（adsorb）氣體（大部分是水氣）；如果不進(jìn)行烘烤（即在室溫條件下），這些吸附的水氣會(huì)緩慢地脫附（desorb），這個(gè)過程將會(huì)持續(xù)非常長(zhǎng)的時(shí)間。
烘烤過程會(huì)加速水氣的脫附速度，極大縮短系統(tǒng)進(jìn)入超高真空（E-10 mbar量級(jí)）的時(shí)間。

系統(tǒng)在完成安裝（或者破真空恢復(fù)后），需在真空好于E-5 mbar的情況下，開始烘烤。
超高真空系統(tǒng)都會(huì)安裝有不同的電子部件，烘烤溫度一般設(shè)置為120攝氏度（超出水的汽化溫度），烘烤時(shí)間會(huì)根據(jù)系統(tǒng)的復(fù)雜程度來設(shè)置，一般不少于48小時(shí)；烘烤過程中，需要間歇性（例如，每10個(gè)小時(shí)）對(duì)離子規(guī)進(jìn)行放氣處理。
烘烤效果的判斷，一般以期望得到的極限真空的100倍為參照，例如，極限真空為5E-10 mbar，120度烘烤條件下，真空達(dá)到2E-8 mbar，即可停止烘烤；如果真空系統(tǒng)較復(fù)雜，可以在E-8mbar量級(jí)下維持更長(zhǎng)的時(shí)間。